依托多弧離子鍍工藝設計，金屬電離比例、沉積速率適配批量生產需求，膜層結合力表現穩定，適配多類裝飾鍍膜與功能性鍍膜加工場景。
采用平面、旋轉磁控濺射工藝，可制備結構均勻的金屬及化合物膜層，適配多種基材與不同鍍膜加工工況
一體化 UV 噴涂與紫外固化流水線，整合上料、除塵、噴涂、流平、固化、下料整套工序，可配套 PVD 鍍膜產線聯動使用，完成工件表面防護、提亮、多色飾面加工。
在常規蒸發鍍膜設備基礎上迭代優化，整合真空蒸發鍍膜、HMDSO 等離子聚合沉積兩類工藝，單工序完成車燈反光件金屬反射層與硅油防護膜復合鍍膜，可替代傳統噴涂加工方式。
采用立式雙門交替作業結構，上料裝卸與鍍膜工序可同步開展，兼容磁控濺射、電阻蒸發、防護膜層多種鍍膜工藝，單臺設備適配多類鍍膜生產需求。
搭載非平衡閉合磁控濺射、FCVA 過濾陰極電弧兩類工藝，可在低溫條件下制備含氫、無氫 DLC 涂層，膜層摩擦系數偏低，具備減磨、自潤滑理化特征。
采用大容量鍍膜腔體結構，整合多弧離子鍍、磁控濺射復合工藝，可制備色澤均勻、耐候表現良好的彩色裝飾膜層，可替代傳統水電鍍工藝。
集成電子束蒸發、磁控濺射復合工藝，搭配離子源輔助沉積單元，適配多層精密光學膜層加工，可制備均勻、雜質含量低、厚度偏差可控的光學膜層。
集成磁過濾多弧離子鍍與非平衡磁控濺射工藝，適配切削刀具、精密模具鍍膜加工，制備耐高溫、抗腐蝕硬質膜層，改善工件使用周期。
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