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CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備
產品展示
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CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備

采用平面、旋轉磁控濺射工藝,可制備結構均勻的金屬及化合物膜層,適配多種基材與不同鍍膜加工工況
聯系地址:江蘇省南通市通州灣示范區大豫鎮江新路16號
  • 核心優勢

1.膜層排布均勻緊實,膜層與基材結合狀態穩定

2.工藝參數可控,批次加工效果一致性較好

3.支持低溫鍍膜工藝,降低熱敏基材受熱形變概率

4.靶材消耗損耗可控,長期運維支出適中

  • 核心技術

1.支持平面靶、圓柱旋轉靶兩種配置,適配多款產品鍍膜生產

2.搭載全自動 PLC 控制系統,人機操作流程簡易

3.支持單層、多層復合膜層制備,膜層雜質含量低

4.工裝架可適配常規尺寸、異形零部件同步鍍膜

  • 設備參數
型號CCZK-700-SFCCZK-1012-SFCCZK-1416-SFCCZK-1618-SFCCZK-1820-SF
腔體尺寸D700mm*H700mmD1000mm*H1200mmD1400mm*H1600mmD1600mm*H1800mmD1800mm*H2000mm
負載功率58KW75KW175KW230KW255KW
占地面積L4200mm*W4200mm*H2300mmL5400mm*W5200mm*H2900mmL6155mm*W5050mm*H3210mmL6500mm*W4750mm*H3200mmL7800mm*W5200mm*H2600mm
可鍍顏色金色、銀色、槍黑、玫瑰金、藍色、灰色、透明色等
可鍍膜層純金屬膜、合金膜、化合物膜;硬度500~3000HV,膜層致密耐磨
真空系統擴散泵/渦輪分子泵+羅茨泵+機械泵+維持泵(深冷系統可選)
極限真空5*10??Pa
轉動系統行星自轉和公轉系統
6/8/10/12/16軸
鍍膜系統CKB?平面濺射陰極 / CKB?圓柱濺射陰極 / IET?離子蝕刻源/分布式 MFC 氣路 / HIPIMS 濺射
電源脈沖直流濺射電源 / 雙極濺射電源 / 射頻濺射電源 / 脈沖偏壓電源 / HIPIMS 電源 / IET?蝕刻源電源
操作系統全自動(IPC/PLC)+遠程操作+報警系統
(支持OPC-UA Link協議)
備注具體配置大小均可根據客戶的鍍膜產品要求進行設計
  • 核心應用

適用于五金裝飾零部件、家電玻璃、汽車配件、3C產品、光學鏡片、玻璃美妝包裝、半導體元器件鍍膜加工,可制備純金屬膜、合金膜、化合物膜,呈現金色、銀色、槍黑、玫瑰金、藍色、灰色、透明色等多種外觀效果。膜層硬度區間 500~3000HV,膜層結構緊實,具備耐摩擦理化特性。

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