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CCZK-DLC 類金剛石鍍膜設備
產品展示
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CCZK-DLC 類金剛石鍍膜設備

搭載非平衡閉合磁控濺射、FCVA 過濾陰極電弧兩類工藝,可在低溫條件下制備含氫、無氫 DLC 涂層,膜層摩擦系數偏低,具備減磨、自潤滑理化特征。
聯系地址:江蘇省南通市通州灣示范區大豫鎮江新路16號
  • 核心優勢

1.涂層摩擦系數≤0.15,自帶自潤滑效果,可減少外部潤滑介質使用

2.無氫 ta-C 涂層硬度可達 63GPa,具備良好耐摩擦表現

3.沉積溫度區間控制在 100~200℃,適配受熱易變形的基材加工

4.膜層結構緊實,可耐受酸堿環境、鹽霧腐蝕工況

  • 核心技術

1.自有 DLC 配套工藝方案,降低膜層內應力,減少開裂、膜層剝離現象

2.可移出式三維工裝轉架,工件裝取操作簡單,適配多種尺寸零部件

3.配套全自動控制系統,各類成熟工藝參數可一鍵調用

4.支持多款 DLC 膜層制備,匹配不同產品加工工況需求

  • 設備參數
型號CCZK-1012-DLCCCZK-1416-DLC
腔體尺寸D1000mm*H1200mmD1400mm*H1600mm
負載功率140KW170KW
占地面積L5400mm*W5200mm*H2900mmL6155mm*W5050mm*H3210mm
可鍍顏色黑色、深灰色、啞光黑,七彩
可鍍膜層含氫 DLC、無氫 ta-C、W-DLC、GLC、WC/C;硬度 1500HV~63GPa,摩擦系數≤0.15
真空系統擴散泵/渦輪分子泵+羅茨泵+機械泵+維持泵(深冷系統可選)
極限真空5*10??Pa
轉動系統行星自轉和公轉系統
6/8/10/12/16軸
鍍膜系統CKB?平面濺射陰極 / CKB?圓柱濺射陰極 / IET?離子蝕刻源 / 分布式 MFC 氣路 / HIPIMS 濺射
電源脈沖直流濺射電源 / 雙極濺射電源 / 射頻濺射電源 / 脈沖偏壓電源 / HIPIMS 電源 / IET?蝕刻源電源
操作系統全自動(IPC/PLC)+遠程操作+報警系統
(支持OPC-UA Link協議)
備注具體配置大小均可根據客戶的鍍膜產品要求進行設計
  • 核心應用

適配發動機活塞、滑動密封配件、有色金屬切削刀具、醫療器件、手機精密零部件、金屬表帶、首飾制品鍍膜加工,可制備含氫 DLC、無氫 ta-C、W-DLC、GLC、WC/C 多種涂層,呈現黑色、深灰色、啞光黑、七彩外觀效果。膜層硬度區間 1500HV~63GPa,摩擦系數≤0.15。

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